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首頁／ 光電半導體設備／ 有機金屬氣相磊晶
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‧MOCVD-Epi system　‧SOF-Gas Purification system　‧Drybox and Isolator Glove Systems
 
 
 

SOF ~ 氫氣 / 氮氣 連續型純化系統
氫氣 / 氮氣 連續型純化系統
可從目標氣體中去除 濕氣, 氧氣, 一氧化碳, 及其他污染物
可連續使用而無須更換濾芯或拆卸管路
對電力供應之失效(power supply failures)並不敏感
對來源氣體供應品質之不穩定亦不敏感
 

氫氣 / 氮氣 連續型純化系統 之規格
最大流量

60 slm

300 slm

最大操作壓力

500 psig

500 psig

標準操作壓力

125 psig

125 psig

最小操作壓力

30 psig

30 psig

純化媒介物

Nickel Silica Mix

Nickel Silica Mix

可從來源氣體中去除之污染物

CO, CO 2 , H 2 O, O 2, NMHC's

CO, CO 2 , H 2 O, O 2, NMHC's

出口氣體純度

< 1 ~ 10 ppb (eq. 8~9N)

< 1 ~ 10 ppb (eq. 8~9N)

操作溫度

0 ° C to 50 ° C
(32 ° F to 122 ° F)

0 ° C to 50 ° C
(32 ° F to 122 ° F)

入 / 出口管配件連接型式

?” male VCR

?” male VCR

洩漏率 ( 密閉率 )

4 X 10 -9 atm cc/sec

4 X 10 -9 atm cc/sec

 
 
 
 
 
 
 
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